Chemical Vapor Deposition (journal)
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Chemical Vapor Deposition is a monthly peer-reviewed scientific journal covering materials science. It publishes Reviews, Short Communications, and Full Papers on all aspects of chemical vapor deposition and related technologies, along with other articles presenting opinion, news, conference information, and book reviews. Frequent topics covered by the journal also include inorganic chemistry, materials chemistry, organometallics, applied physics and semiconductor technology, thin films, and ceramic processing.
References
Categories:
- Chemistry journals
- Materials science journals
- Publications established in 1995
Wikimedia Foundation.
2010.
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Chemical Vapor Deposition (journal) — Chemical Vapor Deposition Titre abrégé Chem. Vap. Deposition CVD Discipline … Wikipédia en Français
Chemical vapor deposition of ruthenium — is a method to deposit thin layers of ruthenium on substrate by Chemical vapor deposition (CVD). A unique challenge arises in trying to grow impurity free films of a catalyst in Chemical vapor deposition (CVD). Ruthenium metal activates C H and C … Wikipedia
Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical Vapour Deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapour deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Journal of Physical Chemistry C — Titre abrégé J. Phys. Chem. C Discipline Chimie Langue … Wikipédia en Français
Journal of Materials Chemistry — Titre abrégé J. Mater. Chem. Discipline Chimie Langue … Wikipédia en Français
Journal of the Electrochemical Society — Titre abrégé J. Electrochem. Soc. JES Discipline El … Wikipédia en Français
Journal of New Materials for Electrochemical Systems — Titre abrégé J. New Mat.Electrochem. Syst. Discipline … Wikipédia en Français
Atomic layer deposition — (ALD) is a gas phase chemical process used to create extremely thin coatings. The majority of ALD reactions use two chemicals, typically called s. These precursors react with a surface one at a time in a sequential manner. By exposing the… … Wikipedia
