Hafnium(IV) silicate

Hafnium(IV) silicate

Hafnium silicate (HfSiO4) is a chemical compound, a silicate of hafnium.

Thin films of hafnium silicate and zirconium silicate produced by chemical vapor deposition, most often MOCVD, can be used as a high-k dielectric as a replacement for silicon dioxide in semiconductors.


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